Nvidia ha anunciado un avance significativo en la fabricación de chips, al acelerar un proceso clave 40 veces más rápido que los métodos actuales. La compañía ha desarrollado cuLitho, un conjunto de algoritmos diseñados para ser utilizados con GPUs, que convierte dos semanas de trabajo en un proceso que se realiza en una sola noche. Se viene una revolución en la producción de GPUs y más ahora que la inteligencia artificial aumentará la demanda.
La litografía inversa es un enfoque en la fabricación de chips que permite imprimir características a escala nanométrica utilizando sólo luz. Sin embargo, su uso ha sido limitado debido al enorme tamaño de los cálculos requeridos. La solución de Nvidia, cuLitho, aborda este problema al permitir que los GPUs realicen cálculos de manera mucho más eficiente.
El CEO de Nvidia, Jensen Huang, declaró durante la conferencia de desarrolladores Nvidia GTC que esta tecnología permitirá a las fábricas aumentar la producción, reducir su huella de carbono y sentar las bases para procesos de fabricación de 2 nanómetros y más allá. La empresa líder en fundición de chips lógicos, Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC), comenzará a calificar el uso de cuLitho en la producción a partir de junio. Además, la firma de software de automatización de diseño Synopsys planea integrar el software, mientras que el fabricante de equipos de litografía ASML también planea dar soporte a cuLitho en sus productos.
La litografía inversa, aunque suena simple, es un cálculo extremadamente complicado que a menudo lleva semanas en completarse. CuLitho, sin embargo, hace que el proceso sea mucho más eficiente, permitiendo que 500 computadoras Nvidia DGX H100 realicen el trabajo de 40,000 sistemas de CPU. Como resultado, puede producir de tres a cinco veces más fotomáscaras por día, consumiendo sólo 5 megavatios en lugar de 35 megavatios.
Vivek K. Singh, vicepresidente del grupo de tecnología avanzada de Nvidia, sugiere que cuLitho podría incluso ofrecer resultados superiores. Al producir polígonos curvos difíciles de calcular en la máscara, se logra una mayor profundidad de enfoque para el patrón proyectado en la oblea. Esto debería resultar en menos variación en la oblea y, por lo tanto, un mayor rendimiento de chips funcionales por oblea. En el futuro, también podría significar que se necesiten menos fotomáscaras, ya que la litografía inversa podría hacer que lo que ahora se realiza con un patrón doble funcione con solo uno.
Aunque Nvidia no es la primera empresa en utilizar GPUs para acelerar la tecnología de litografía inversa, su solución cuLitho representa un avance importante en la eficiencia y la velocidad en la fabricación de chips, lo que podría tener un impacto significativo en la industria en su conjunto.
Más información y fotografía de IEEE.org
